Electron beam-induced deposition

La croissance assistée par faisceau d'électrons (en anglais Electron beam-induced deposition (EBID)) est un procédé de décomposition, induite par un faisceau d'électrons, de molécules gazeuses adsorbées sur un substrat. La résultante en est un dépôt solide constitué des fragments non volatils de la molécule de précurseur. Le faisceau d'électrons, s'il provient d'un microscope électronique à balayage ou à transmission (scanning electron microscope) peut permettre la réalisation de structures à haute résolution spatiale (diamètre inférieur au nanomètre), ou des structures tridimensionnelles.

• (en) Nanofabrication: Fundamentals and Applications, Ampere A. Tseng, World Scientific, 4 mars 2008 (ISBN 981-270-076-5 et 978-981-270-076-6).
• (en) K. Molhave (thèse de doctorat), Tools for in-situ manipulations and characterization of nanostructures, université technique du Danemark, 2004.

• Sonde ionique focalisée
• Carbonyle de métal
• Métallocène

• (en) NIMS EBID page
• (en) Information source for people active in the field of focused electron beam-induced processes
• (en) Wikibook on EBID

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