10 µm

10 µm (ou encore 10 000 nm) est la dimension caractéristique d'un procédé de fabrication des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, le principal fabricant de semi-conducteurs dans les années 1971-1972[1].

Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.

Produits fabriqués avec un procédé à 10 µm

Notes et références

  1. Alain Binet, Le Second XXe siècle (1939-2000), Paris, Ellipses, 2003, p. 208

Voir aussi

Bibliographie

  • (en) Grant McFarland, Microprocessor Design : A Practical Guide from Design Planning to Manufacturing, McGraw-Hill Publishing Companies, Inc., , 408 p. (ISBN 0071459510, DOI 10.1036/0071459510)

Liens externes

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